对应扩张ISO Class1,10nm的离子风棒AeroBarMP 5635
如针尖离子系统的小颗粒小于100nm半导体制造过程中和earoba电离模型5635 MP（离子系统制造）超低粒子功能的产品已开发的应用程序需要管理。
· 单晶硅电极，电极材料在世界上广泛采用****的跟踪记录，避免重金属污染的风险与超低粒子的特性
· 一个独特的MP法（脉冲调制），进行有效的高性能静电消除的目标离子
· 少偏颇了长期的挥杆特点和潜在的小酒吧，也可用于在距离100mm的离子平衡
· 自动管理状态离子生成和离子平衡在任何时候，智能控制电路
· 一个可拆卸更换电极在1/4圈，有助于减少维护工时
· 小MP功能的方法，也简化了安装，也使行动保持在长期的管理标准的离子平衡，是一个非常小的潜在秋千潜力
· 半导体前端进程杆长度设置EFEM
· 内脏器官的24V直流驱动器控制器的设计紧凑
· 可在高层次的全球支持网络
AeroBar MP的5635型号
|
输入电压
|
24V DC + / -10％
|
|
输出电压
|
可调至约13.5kv PP
|
|
安装距离
|
100毫米〜1000毫米（无空气净化）
|
|
离子生成方法
|
电晕放电法
MP 1〜33 Hz的调制频率的方法（脉冲调制）
|
|
离子平衡
|
自动平衡调节方法
的位置，直接下<+ /-10V <+ /-10V的区别在酒吧
（距离600毫米）
|
|
电极
|
单晶硅电极可更换
|
|
吹扫气
|
清洁干燥的空气或氮气
|
|
*大压力吹扫
|
310Kpa
|
|
臭氧金额
|
<0.05PPM（综合价值为24小时）
|
|
信号输出
|
集电极开路报警输出IO
|
|
维
|
34毫米x 78毫米x长度深度高度低于
|
|
450/600/850/1000/1150/1300/1450/1600/1750
/ 1900/2050/2200/2350Mm
|
|
外观
|
ABS树脂
|
和，10nm的ISO Class1的延伸？
为了回应小颗粒管理，清洁的定义是通过自己的离子系统设置关于ISO Class1的扩展，为10nm。ISO14644-1是*高的小粒径100nm的定义。我们使用相同的公式计算允许粒子数，10nm的Class1的和扩展的ISO ISO14644-1，允许颗粒的数量，这将是在粒径为10nm或更多1200pc/m3（34 pc/ft3）